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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

微電子技術(shù)組(密封)裝涂工序中等離子處理機(jī)工藝的應(yīng)用特色

微電子技術(shù)組(密封)裝涂工序中等離子處理機(jī)工藝的應(yīng)用特色:
        溶劑清洗作為傳統(tǒng)的主流高效化清洗工序,普遍使用于各個領(lǐng)域,但在精細(xì)電子器件設(shè)備清洗工藝管理中比較繁雜;隨著精細(xì)微電子技術(shù)和鍍層對板材表層清潔度和活化能的嚴(yán)格要求,其應(yīng)用局限性不言而喻。
       CRF等離子處理機(jī)工藝作為1種新式的表面處理和干式清洗工序,近些年隨著各個領(lǐng)域特別是精細(xì)電子行業(yè)應(yīng)用研究的不斷深入,已為大家所熟知。

等離子處理機(jī)

       等離子處理機(jī)無溶劑干式的精細(xì)清洗可以在淘汰ODS和有機(jī)揮發(fā)性VOC清洗劑的過程中發(fā)揮重要作用。與溶劑清洗相比,它具有工序簡單、成本低、環(huán)保節(jié)能的特點,也是溶劑深度清洗的重要補(bǔ)充。
等離子處理機(jī)可用作觸摸顯示屏、包裝印刷、粘合、噴涂、噴墨等各類板材和光學(xué)鏡片的表層活化、改性和清潔,以提高材料表層的耐用性和強(qiáng)度。
       現(xiàn)階段,普遍應(yīng)用的物理和化學(xué)清洗方式大體上可可分為濕法清洗和干式清洗兩類。濕法清洗主要以溶劑型清洗為主流,干式清洗以等離子體清洗為主。
        隨著精細(xì)電子器件組(密封)安裝和鍍層板材表層清潔度和活化能的高要求,精細(xì)清洗在相關(guān)工序中變得不可或缺。例如,在高密度連接HDI、PCBPTH電鍍、半導(dǎo)體芯片、太陽能面板、觸摸屏玻璃、塑料、陶瓷、金屬和聚合物面板鍍層或粘接、BGAFipChip、LCD、LED、IC芯片和支架包裝或組裝、PCBA焊接后密封工序、IC引腳或焊接端點膠密封、芯片底端填充、線路板表層三防鍍層工序前,需要等離子處理機(jī)清洗或清洗預(yù)處理。


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