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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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真空低溫等離子發(fā)生器清洗過程中有哪些物質(zhì)是很難去除

真空低溫等離子發(fā)生器清洗過程中有哪些物質(zhì)是很難去除:
       真空低溫等離子發(fā)生器別稱等離子表面處理儀,是1項(xiàng)嶄新的高新科技,它使用等離子體來實(shí)現(xiàn)常規(guī)清潔器所不可實(shí)現(xiàn)的功效。等離子體是一種物質(zhì)狀態(tài),也叫第四態(tài)。把充分的能量加到氣體上,使其離化便變?yōu)榈入x子狀態(tài)。在生活中,我們既要認(rèn)識真空低溫等離子發(fā)生器技術(shù)的優(yōu)點(diǎn),又要認(rèn)識其不足之處和使用中存在的問題,低溫等離子發(fā)生器清洗在應(yīng)用中也存在著一些限制,主要表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:

低溫等離子發(fā)生器

    1、在實(shí)際使用過程中還發(fā)現(xiàn),等離子體不可很好地去除附著在表面的指紋,這是一種常見于玻璃光學(xué)元件上的污染物。
等離子體清洗不可完全用來去除指紋,但是這需要延長處理時(shí)間,此時(shí)又必須考慮到這是他會(huì)給基材帶來的不良影響。因此還要采取其它清洗措施來進(jìn)行預(yù)處理的配合,這使得清洗過程更加復(fù)雜。
    2、實(shí)踐證明不能用它去清油漬,盡管用等離子法清洗物體表面的少量油漬有很好的功效,但清除油漬的功效往往不佳。
    3、不能用這種方法去除物體表面的切削粉末,這一點(diǎn)在清洗金屬表層油漬時(shí)表現(xiàn)得非常顯著。
    4、由于真空低溫等離子發(fā)生器清洗工藝要求真空處理,且一般在線或批量生產(chǎn),所以在將等離子清洗裝置引入生產(chǎn)線時(shí),必須考慮到工件的儲(chǔ)存和移交問題,特別是當(dāng)工件的體積較大且加工量較大時(shí)更應(yīng)考慮這一問題。
     在真空低溫等離子發(fā)生器清洗過程中,需要注意的問題主要有以上幾點(diǎn)。若您還想了解更多,歡迎關(guān)注誠峰智造微信公眾號,我會(huì)一直為你更新。

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