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CRF plasma 等離子清洗機

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20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家

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寬幅等離子表面處理機

CRF-APS- 500W

自動式等離子處理系統(tǒng)大氣等離子清洗機應(yīng)用于FPC&PCB表面處理,復(fù)合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理;

首創(chuàng)超低溫處理過程,處理溫度可≤35°C以下;

專利設(shè)計的內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;

等離子設(shè)備可以使用On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達(dá)10eV以上,材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

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設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)

      等離子清洗機,又名等離子處理機,等離子表面處理設(shè)備。其基本原理是:在清理過程中,由工作中氣體在磁場的作用下所激起的等離子體與物件表層產(chǎn)生物理學(xué)和化學(xué)變化。物理反應(yīng)原理是活性顆粒轟擊待清理表層,使污染物擺脫表層,污染物被排出;化學(xué)變化原理是各種各樣活性顆粒與污染物反應(yīng)形成揮發(fā)物化學(xué)物質(zhì)抽出,進(jìn)而做到清理目的。一般用以氫、氮、氧、氬等工作氣體。

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