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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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常壓等離子表面處理機(jī)

CRF-APO-1100P

配置專(zhuān)業(yè)運(yùn)動(dòng)控制平臺(tái)，PLC+觸摸屏控制方式，采用精準(zhǔn)運(yùn)動(dòng)模組，操作簡(jiǎn)便；

可選配噴頭數(shù)量，滿足客戶多元化需求；

配置專(zhuān)業(yè)集塵系統(tǒng)，保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔、干凈；

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設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)
       AP等離子設(shè)備主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理，手機(jī)屏幕的表面處理；電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

       等離子處理系統(tǒng)技術(shù)促進(jìn)了半導(dǎo)體材料和光學(xué)工業(yè)生產(chǎn)的快速發(fā)展趨勢(shì)，并被普遍使用于精密的機(jī)器設(shè)備、汽車(chē)工業(yè)、新能源技術(shù)、航天航空、污染治理等眾多高新科技行業(yè)。等離子處理系統(tǒng)等離子清洗工藝的關(guān)鍵是低溫等離子體的運(yùn)用，低溫等離子體關(guān)鍵借助高溫、高頻率、高能等外部條件造成，是一種氣體狀物質(zhì)，具備中性化、高能、電離氣體。低溫等離子體的動(dòng)能約為幾十電子伏特，在其中帶有離子、電子、自由基和其它特異活性顆粒，及其紫外線等物質(zhì)，這種顆粒便于與污染物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)反應(yīng)在材料外表上，使之分離出來(lái)，因而可被清理。因?yàn)榈蜏氐入x子體比高能射線的能量低得多，因此這個(gè)辦法只涉及到原材料的表層，不容易影響到材料的板材特性。

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  • 完善的服務(wù)體系

    集研發(fā)、制造、銷(xiāo)售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)

  • 服務(wù)行業(yè)領(lǐng)域廣泛

    專(zhuān)注等離子研發(fā)20年，服務(wù)多種行業(yè)

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