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CRF plasma 等離子清洗機

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機

20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家

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噴射型AP等離子清洗機

CRF-APO-R&D-XXXHD

采用PFC全橋數(shù)字式等離子電源,輸出功率穩(wěn)定,抗干擾能力強,反應(yīng)迅速;

可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;

設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節(jié)省客戶使用空間;

可ln-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;

使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制。

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設(shè)備詳細數(shù)據(jù)

名稱 噴射型AP等離子清洗機
等離子電源型號 CRF-APO-R&D-XXXHD
旋轉(zhuǎn)噴式等離子噴槍型號 旋噴式:RXXOption:20mm-80mm
電源 220V/AC,50/60Hz
功率 600-1000W20KHz(Option)
功率因素 0.98
處理高度 5-15mm
處理寬幅 旋噴式:20-80mmOption
內(nèi)部控制模式
數(shù)字控制
外部控制模式
RS485/RS232、模擬通訊口、 啟停I/O
工作氣體
Compressed AIR (0.4mpa)/N2(0.2mpa)
電源重量
10kg

應(yīng)用范圍

      等離子表面處理儀主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。
      等離子清洗設(shè)備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經(jīng)等離子處理后,能提升材料表層的濕潤性,使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實際操作,提高粘結(jié)力和鍵合能力,另外還可以除去有機化學(xué)污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性,接枝層會與表層分子結(jié)構(gòu)中間產(chǎn)生化學(xué)鍵,使其具備優(yōu)良的使用性能。

      等離子清洗設(shè)備采用高精密的數(shù)控加工技術(shù),具備高精密的全自動清洗機械裝置,時間控制度高;等離子體的恰當(dāng)清理不會對其表層造成損害,產(chǎn)品的工藝性能獲得確保;它是一種綠色環(huán)保的清洗加工工藝,不會造成環(huán)境污染,防止了人為失誤的危害,清理表層不會受到二次污染。等離子清洗機具備線上生產(chǎn)量,并可完成自動式清理。等離子體清洗不會受到幾何圖形樣子的限定,能夠?qū)π×慵?、塑膠板材、無防布、紡織產(chǎn)品、橡膠軟管、內(nèi)腔pcb線路板等開展表面處理。零件不會產(chǎn)生機械形變,是一種高質(zhì)量加工工藝;且考慮凈化車間等嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn),方便使用靈活實際操作簡易,對各種形狀的零件處理成效顯著,加工工藝可控,低成本,效果非常的好,而且時間較短。生產(chǎn)加工過的產(chǎn)品外型不會遭受等離子體處理的高低溫影響,零件非常少遇熱。等離子清洗機具備運作花費低、加工工藝安全、實際操作安全性高等優(yōu)勢,也是一種處理后成效顯著的清洗生產(chǎn)流程。

       離子表面處理設(shè)備提供了改變材料表面的作用,以提高表面能、粘合、印刷和潤濕。等離子體也可提供涂有防水產(chǎn)品的能力。實際上,幾乎所有的材料都可以用等離子處理。
       等離子表面處理設(shè)備處理的污染物通常是看不見的,屬于納米級別。這種污染會影響物體與其它物質(zhì)相互作用的能力,例如膠水或油墨。利用等離子體對物體表面進行處理,可以去除有機物。
       離子表面處理設(shè)備可提高粘結(jié)或焊料的粘結(jié)強度,提高印刷的可靠性。這種加工方法適用于光亮的塑料和橡膠,清除雜質(zhì)后可以對其進行印刷和粘接。

噴射型AP等離子清洗機

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