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20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
CRF-APO-R&D-XXXHD
采用PFC全橋數(shù)字式等離子電源,輸出功率穩(wěn)定,抗干擾能力強(qiáng),反應(yīng)迅速;
可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;
設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節(jié)省客戶使用空間;
可ln-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;
使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;
13632675935
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名稱 | 自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng) |
等離子電源型號型號 | CRF-APO-R&D-XXXHD |
旋轉(zhuǎn)式等離子噴槍型號 | 旋噴式:RXX(Option:20mm-80mm) |
電源 | 220V/AC,50/60Hz |
功率 | 600-1000W20KHz(Option) |
功率因素 | 0.98 |
處理高度 |
5-15mm |
處理寬幅 | 旋噴式:20-80mm(Option) |
內(nèi)部控制模式 |
數(shù)字控制 |
外部控制模式 |
RS485/RS232、迷你通訊口、啟停I/O |
工作氣體 |
Compressed AIR (0.4mpa)/N2(0.2mpa) |
電源重量 |
10kg |
應(yīng)用范圍
等離子表面處理儀主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。
等離子清洗設(shè)備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經(jīng)等離子處理后,能提升材料表層的濕潤性,使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實(shí)際操作,提高粘結(jié)力和鍵合能力,另外還可以除去有機(jī)化學(xué)污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性,接枝層會與表層分子結(jié)構(gòu)中間產(chǎn)生化學(xué)鍵,使其具備優(yōu)良的使用性能。
等離子清洗設(shè)備采用高精密的數(shù)控加工技術(shù),具備高精密的全自動清洗機(jī)械裝置,時間控制度高;等離子體的恰當(dāng)清理不會對其表層造成損害,產(chǎn)品的工藝性能獲得確保;它是一種綠色環(huán)保的清洗加工工藝,不會造成環(huán)境污染,防止了人為失誤的危害,清理表層不會受到二次污染。等離子清洗機(jī)具備線上生產(chǎn)量,并可完成自動式清理。等離子體清洗不會受到幾何圖形樣子的限定,能夠?qū)π×慵?、塑膠板材、無防布、紡織產(chǎn)品、橡膠軟管、內(nèi)腔pcb線路板等開展表面處理。零件不會產(chǎn)生機(jī)械形變,是一種高質(zhì)量加工工藝;且考慮凈化車間等嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn),方便使用靈活實(shí)際操作簡易,對各種形狀的零件處理成效顯著,加工工藝可控,低成本,效果非常的好,而且時間較短。生產(chǎn)加工過的產(chǎn)品外型不會遭受等離子體處理的高低溫影響,零件非常少遇熱。等離子清洗機(jī)具備運(yùn)作花費(fèi)低、加工工藝安全、實(shí)際操作安全性高等優(yōu)勢,也是一種處理后成效顯著的清洗生產(chǎn)流程。
如何理解等離子清洗設(shè)備中的這兩種化學(xué)反應(yīng)?實(shí)際應(yīng)用是什么?
等離子清洗設(shè)備中的化學(xué)反應(yīng),您真的知道是什么嗎
用等離子清洗設(shè)備對固體材料進(jìn)行表面處理時,一般都會涉及到物理和化學(xué)反應(yīng),而化學(xué)反應(yīng)主要有2種類型,那么對于2種化學(xué)反應(yīng)又該如何理解呢?還將有哪些具體的實(shí)際應(yīng)用?
考慮到化學(xué)反應(yīng)方程的解釋更加方便和直觀,接下來也將通過等離子清洗設(shè)備表面處理過程的反應(yīng)方程為大家講解。在下列反應(yīng)式中,大寫字母A、B、C、D、M分別表示不同的物質(zhì);小寫字母s、g分別表示物質(zhì)的固體形態(tài)和氣體形態(tài)。
化學(xué)式為A(g)+B(g)→C(s)+D(g)的等離子體表面處理工藝:
類型的等離子清洗設(shè)備的化學(xué)反應(yīng),通常包含兩種以上的反應(yīng)性氣體,產(chǎn)生的等離子體能與固體材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng),這種特殊工藝應(yīng)用包括等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)、等離子濺射和等離子體聚合。
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法PECVD通常是將兩種或兩種以上工藝氣體在等離子體狀態(tài)下反應(yīng),生成新的固體物質(zhì),并在材料基底上形成一層薄膜物質(zhì),這種工藝目前已廣泛應(yīng)用于光學(xué)膜制備等領(lǐng)域。
等離子體濺射也是利用兩種或更多的氣體電離成等離子體進(jìn)行的反應(yīng),不同的是,其中一種反應(yīng)物是首先利用荷能粒子從靶材上濺射下來,然后通過反應(yīng)生成薄膜,這屬于濺射制膜范疇。
至于等離子清洗設(shè)備等離子體聚合過程,實(shí)際上就是等離子體發(fā)生的反應(yīng)物是有機(jī)單體。
化學(xué)反應(yīng)式為A(g)+B(g)+M(s)→AB(g)+M的等離子表面處理工藝:
這種反應(yīng)過程代表了固體材料M的表面主要起催化作用,并能促進(jìn)氣體分子的離解和復(fù)合等作用。在這類等離子清洗設(shè)備等離子體反應(yīng)中,常被用于特殊氣體制備領(lǐng)域。
500強(qiáng)企業(yè)長期選擇品牌
20年自主研發(fā)經(jīng)驗(yàn) 500強(qiáng)企業(yè)案例 多項(xiàng)技術(shù)專利認(rèn)證
通過歐盟CE認(rèn)證 采用進(jìn)口器件部件 然您無憂使用
專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)
擁有多名從業(yè)十多年的組裝工程師
先進(jìn)的設(shè)備
認(rèn)真對待每一次設(shè)備試驗(yàn)
嚴(yán)格的質(zhì)量控制
設(shè)備出廠前連續(xù)24小時運(yùn)行調(diào)試
完善的服務(wù)體系
集研發(fā)、制造、銷售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)
服務(wù)行業(yè)領(lǐng)域廣泛
專注等離子研發(fā)20年,服務(wù)多種行業(yè)
可特殊定制設(shè)備
完全按照客戶需求制作設(shè)備
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