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CRF plasma 等離子清洗機

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機

20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家

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在線軸輪式等離子清洗機

CRF-APO-500W-W

配置專業(yè)運動控制平臺,PLC+觸摸屏控制方式,采用精準運動模組,操作簡便;

可選配噴頭數(shù)量,滿足客戶多元化需求;

配置專業(yè)集塵系統(tǒng),保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔、干凈。

13632675935

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設(shè)備詳細數(shù)據(jù)

名稱 自動式On-Line(軸輪式)AP等離子處理系統(tǒng)
型號 CRF-APO-500W-W
電源 220V/AC,50/60Hz
功率 2set*1000W/25KHz(Option)
處理寬幅 50mm-500mm(Option
有效處理高度 5-15mm
處理速度 0-5m/min
傳動方式
防靜電絕緣滾輪
噴頭數(shù)量
2(Option)
工作氣體
Compressed Air(0.4mpa)

應(yīng)用范圍

      自動On-Line(軸輪式)式AP等離子設(shè)備主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。等離子處理系統(tǒng)技術(shù)促進了半導體材料和光學工業(yè)生產(chǎn)的快速發(fā)展趨勢,并被普遍使用于精密的機器設(shè)備、汽車工業(yè)、新能源技術(shù)、航天航空、污染治理等眾多高新科技行業(yè)。等離子處理系統(tǒng)等離子清洗工藝的關(guān)鍵是低溫等離子體的運用,低溫等離子體關(guān)鍵借助高溫、高頻率、高能等外部條件造成,是一種氣體狀物質(zhì),具備中性化、高能、電離氣體。低溫等離子體的動能約為幾十電子伏特,在其中帶有離子、電子、自由基和其它特異活性顆粒,及其紫外線等物質(zhì),這種顆粒便于與污染物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)反應(yīng)在材料外表上,使之分離出來,因而可被清理。因為低溫等離子體比高能射線的能量低得多,因此這個辦法只涉及到原材料的表層,不容易影響到材料的板材特性。
      自動式等離子設(shè)備是一種干式加工工藝,選用電催化反應(yīng),能提供低溫環(huán)境,另外能排除化學水處理過程中形成的有害物及廢水,安全可靠,有益于環(huán)境保護。等離子體清洗融合了等離子體物理、等離子體化學和材料表面相反映,可高效消除材料表層殘留的有機物空氣污染物,確保其不會受到表層和本身特點不受影響,現(xiàn)階段已取代傳統(tǒng)式濕式清理的替換方式。
      自動式等離子設(shè)備技術(shù)主要是運用等離子體功效作用于材料的表層,造成一系列物理學、化學反應(yīng),運用帶有的特異活性顆粒和高能射線,與表層有機化學空氣污染物分子結(jié)構(gòu)反映、撞擊,產(chǎn)生小分子揮發(fā)性物質(zhì),從表層除去,做到清潔的效果。由此可見,等離子清理技術(shù)具備工序簡易、高效率環(huán)保節(jié)能、環(huán)保無污染等優(yōu)勢。
      依據(jù)不一樣的反應(yīng)類型,自動式等離子設(shè)備可分成兩類:等離子體物理學清洗,運用特異活性顆粒和高能射線轟擊分離出來污染物;等離子體化學處理,運用活性顆粒和殘渣分子反應(yīng)分離出來污染物。
      1、與傳統(tǒng)的的溶液清理不一樣,等離子體借助其包含的較高能化學物質(zhì)的“活性功效”來完成對材質(zhì)表層的清理,清理實際效果顯著,屬于剝離式清理。其清除效果具體表現(xiàn)在以下幾個方面:
      2、可解決多種多樣材料,對清理目標要求較低,因而非常適用不耐高溫的材料和溶劑基底材料;
      3、清理后不用干躁或別的工藝流程,無廢水造成,工作中氣體排污無毒性,環(huán)境保護安全性;
      4、實際操作簡易,易于控制,真空清洗機對真空值規(guī)定不高,也可選用大氣式等離子體清理加工工藝,另外可以防止采用很多的溶劑,因而成本費較低。
      自動式等離子設(shè)備分不分待處理目標的材質(zhì)類型,對半導體材料、金屬材料和大部分高聚物均有有效的處理效果,并能保持總體、局部分和繁雜構(gòu)造的清理。該清洗過程可完成自動化、智能化,可安裝高精密控制系統(tǒng),精準控制時間。此外,等離子清理技術(shù)性因其使用簡易、高精度、可預測性強等特點而被普遍使用于電子電器、材料的外表改性材料及活性等領(lǐng)域。

等離子體活化處理設(shè)備是否沒有廢氣廢水的產(chǎn)生更環(huán)保
       談到等離子處理設(shè)備,廢氣處理等離子體光解凈化器,金屬焊接與切割等離子體弧焊機,產(chǎn)品材料表面處理等離子體活化處理設(shè)備都屬于等離子處理設(shè)備范疇,您對等離子體活化處理設(shè)備有什么了解嗎?是否存在排放廢氣的廢水?它是否應(yīng)該更環(huán)保、更安全呢?
       活化處理設(shè)備是一種特殊的材料和產(chǎn)品表面處理和改性處理等等離子處理設(shè)備,通過氣體輝光或亞輝光放電的方式產(chǎn)生等離子體,可以達到不同的處理目的。一般常用的等離子清洗機有兩種,一種是低壓真空等離子體活化處理設(shè)備,另一種是大氣等離子體活化處理設(shè)備,同化學處理過程中的濕法不同,等離子體活化處理設(shè)備處理過程是干法處理過程,如何理解?簡言之,等離子體活化處理設(shè)備使用的氣體通常是氧氣、氮、壓縮空氣等常見氣體,無需使用有機化學溶液,處理過程中產(chǎn)生的大部分氣體,如二氧化碳等無害氣體,正因為反應(yīng)物和生成物都是氣體,也無需干燥、廢水處理,所以說等離子清洗機處理的廢水不存在廢氣廢水。
       活化處理設(shè)備是否很環(huán)保安全的呢,就反應(yīng)物和生產(chǎn)生物而言,的確更環(huán)保、更節(jié)能,而且從生產(chǎn)過程來說,生產(chǎn)過程也更簡單、更安全,另外就日常處理成本而言,只需要少量的電力和消耗品維護費用。

在線軸輪式等離子清洗機

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  • 完善的服務(wù)體系

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