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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

plasma清洗表面層生成CO、OCO和O-CO-O鍵

       plasma清洗誘導(dǎo)產(chǎn)生的活性種(例如自由基等),提供了表面二(乙二醇)甲醚分子碎片重新結(jié)合做好反應(yīng)的機(jī)理。自由基落入新生成的大分子網(wǎng)絡(luò)中,能夠引發(fā)劇烈的電子激發(fā)原位氧化反應(yīng)。對(duì)plasma清洗后的鋁片大分子層結(jié)構(gòu)做ATR-FTIR分析,在1583.07cm處有一很強(qiáng)的吸收峰,這是PEG結(jié)構(gòu)中C-O鍵的特征吸收峰,表明沉積的表面層是類PEG結(jié)構(gòu)。1780.21cm處的吸收峰,說明有C-O鍵存在,因此可見在形成類PEG結(jié)構(gòu)的同時(shí)發(fā)生了部分交聯(lián)反應(yīng)。

plasma清洗

       plasma清洗后鋁片細(xì)菌粘附與改性前相比,等離子體處理后,極大地降低了細(xì)菌粘附,這是因?yàn)樵诒砻姘l(fā)生交聯(lián)有PEG結(jié)構(gòu)產(chǎn)生,PEG分子鏈具有高柔順性,可降低細(xì)菌等大分子鏈的構(gòu)型自由度,從而具有抵抗細(xì)菌粘附的能力。改性前鋁片吸附細(xì)菌生物膜的表面形貌與改性后鋁片表面吸附的樣本分析,可以知道等離子體改性后,其表面能有效地抵抗細(xì)菌吸附。
       鋁片表面的元素組成和化學(xué)鍵狀態(tài),在等離子體處理后發(fā)生明顯改變,表面層生成CO、OCO和O-CO-O鍵。這說明plasma清洗誘導(dǎo)產(chǎn)生的活性種(例如自由基等)提供了表面二(乙二醇)甲醚分子碎片重新結(jié)合機(jī)理,而不同于非氧化反應(yīng),形成的自由基落入新生成的大分子網(wǎng)絡(luò)中,能夠引發(fā)劇烈的電子激發(fā)原位氧化反應(yīng)。鋁片表面沉積的類PEG結(jié)構(gòu),能極大地降低細(xì)菌粘附,與改性前相比,細(xì)菌粘附減少80%以上,在食品工業(yè)和醫(yī)學(xué)移植等方面具有重要應(yīng)用前景。

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誠峰智造——專注等離子研發(fā)20年

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