支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)
20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
plasma表面清洗設(shè)備常用的幾種功能作用: 1、plasma表面清洗設(shè)備激活金屬: 盡管金屬被激活,但等離子表面處理設(shè)備激活過程非常不穩(wěn)定,所以有效時(shí)間很短。...
發(fā)布時(shí)間:2022-12-12為什么crf電漿清洗機(jī)處理須要真空環(huán)境下,其原理是什么? crf電漿清洗機(jī)須要引進(jìn)真空環(huán)境的原因很多,但實(shí)質(zhì)上,具體有好幾個(gè)因素:引進(jìn)真空室的氣體在壓力環(huán)境中不會(huì)電離,在充入氣體電離...
發(fā)布時(shí)間:2022-12-09plasma原子團(tuán)化學(xué)反應(yīng)在多晶硅工業(yè)行業(yè)的應(yīng)用研究: 化學(xué)反應(yīng)即原子或原子團(tuán)層面的重新組合,需要外界提供必要的反應(yīng)活化能。相對(duì)plasma而言,工業(yè)生產(chǎn)的反應(yīng)物質(zhì)多呈密集的凝聚態(tài)。參加...
發(fā)布時(shí)間:2022-12-05測(cè)試表明:crf等離子火焰處理機(jī)與NiO/Y-Al203催化機(jī)理: crf等離子火焰處理機(jī)與負(fù)載型調(diào)整金屬氧化物催化劑聯(lián)合作用對(duì)產(chǎn)物C2、CO生成過程影響不同。Na2WO4/Y-Al2O3具有很高的C2烴收率(17....
發(fā)布時(shí)間:2022-12-02”干式”清潔-等離子體表面處理設(shè)備的高效表層清潔: 干式等離子前處理塑料、鋁甚至玻璃的后期噴涂工藝開創(chuàng)了最理想的表層條件。 等離子清洗是一類”干式”清潔過程,...
發(fā)布時(shí)間:2022-12-01在
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