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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

使用CRF_品牌等離子設(shè)備氟化可以提高環(huán)氧樹(shù)脂的電荷消散能力

使用CRF_品牌等離子設(shè)備氟化可以提高環(huán)氧樹(shù)脂的電荷消散能力:
       對(duì)改性環(huán)氧樹(shù)脂而言,由于填料的引入以及環(huán)氧自身的非飽和鍵和支鏈結(jié)構(gòu)較多,環(huán)氧樹(shù)脂中不可避免地會(huì)出現(xiàn)陷阱。大粒徑聚合物中的陷阱密度也很大,等離子體設(shè)備氟化會(huì)使填料的粒徑變小,所以未氟化填料樣品中的陷阱密度很大。當(dāng)電子被能級(jí)較淺的陷阱捕獲時(shí),隨著外部激勵(lì)的作用,電子會(huì)脫落,參與沿閃絡(luò)的發(fā)展。被能級(jí)深的捕集器捕獲后,電子不易脫落,不能參與閃絡(luò)的發(fā)展,因此抑制了沿閃絡(luò)進(jìn)一步發(fā)展,提高樣品的閃絡(luò)電壓。

等離子設(shè)備

       根據(jù)捕集層的大小,氟化時(shí)間由10分鐘增加到45分鐘,可以顯著地降低(低),而深度陷陷井隨氟化時(shí)間的延長(zhǎng),沿表面閃絡(luò)電壓逐漸升高(升高)。當(dāng)填料氟化時(shí)間增加到60分鐘時(shí),樣品中重新出現(xiàn)大量淺陷阱,電子容易脫落,因此閃絡(luò)電壓有降低(低)的趨勢(shì)。
        另外,由于氟的化學(xué)性質(zhì)比較活躍,XPS和FTIR測(cè)試表明填料和環(huán)氧樹(shù)脂中均含有氟。隨著等離子體對(duì)填料的氟化,氟容易與環(huán)氧樹(shù)脂中的基團(tuán)發(fā)生反應(yīng),填料與聚合物基體緊密結(jié)合。粒徑較小的填料在基體中分散性較好,填料之間的交互區(qū)域容易重疊,從而降低(降低)了填料的禁帶寬度,增加了材料中電荷的消散途徑,抑制了表面電荷的積累。CRF_品牌等離子設(shè)備較低的初始表面電荷也降低了樣品表面電場(chǎng)的畸變(減少),抑制了表面的微小放電,提高了樣品的閃絡(luò)電壓。

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