誠峰等離子體發(fā)生器清洗/刻蝕機對大多數(shù)高分子復(fù)合材料的濺射：
       等離子體發(fā)生器清洗/蝕刻機產(chǎn)生的等離子體在封閉的空腔內(nèi)設(shè)置2個電極生成靜電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體越來越薄，分子間距和分子或離子的自由移動距離越來越長。在靜電場的作用下，它們會發(fā)生碰撞，生成等離子體。這些離子體具有很高的活性，它們的能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，并在任何暴露的表面引起化學反應(yīng)。不一樣氣體的等離子體具有不同的化學性質(zhì)。例如，氧氣等離子體具有較高的氧化性，能夠氧化光刻膠反應(yīng)產(chǎn)生氣體，從而達到清潔效果；腐蝕性氣體的等離子體具有良好的各向異性，可以滿足腐蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。

       等離子體發(fā)生器技術(shù)的最大特點是可以處理金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)聚合物材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環(huán)氧樹脂，甚至聚四氟乙烯，可以實現(xiàn)整體、局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清潔。
       經(jīng)濟快速發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對消費品的質(zhì)量要求也日益提高，等離子體發(fā)生器隨之逐步進入生活消費品生產(chǎn)行業(yè)中；另外，科技的不斷發(fā)展，各種技術(shù)問題的不斷提出，新材料的不斷涌現(xiàn)，越來越多的科研機構(gòu)已認識到等離子技術(shù)的重要性，并投入大量資金進行技術(shù)攻關(guān)，等離子體發(fā)生器在其中發(fā)揮了非常大的作用。我們相信等離子體技術(shù)用范圍會越來越廣；技術(shù)成熟，成本降低，應(yīng)用會越來越普及。