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CRF plasma 等離子清洗機

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機

20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家

等離子處理在提高硬盤品質(zhì)領(lǐng)域方面有成功應用

       經(jīng)濟的發(fā)展,人們的生活水平不斷提高,對消費品的質(zhì)量要求也越來越高。各種技術(shù)問題的不斷提出,新材料的不斷涌現(xiàn),越來越多的科研機構(gòu)已認識到等離子技術(shù)的重要性。硬盤塑料件科學的發(fā)展,技術(shù)的不斷進步,電腦硬盤的各項性能也不斷提高,其容量越來越大,碟片數(shù)量隨之增多,轉(zhuǎn)速也高達7200轉(zhuǎn)/分,這對硬盤結(jié)構(gòu)的要求也越來越高,硬盤內(nèi)部部件之間連接效(果)直接影響硬盤的穩(wěn)定性、工作可靠性、使用壽命,這些因素直接關(guān)系到數(shù)據(jù)的安(全)性。 

等離子

       服務器上的硬盤數(shù)據(jù)致關(guān)重要,而且隨著硬盤的存儲量越來越大,穩(wěn)定性越來越難以達到要求,因此提高服務器硬盤的穩(wěn)定性成為業(yè)界的不懈追求。而硬盤的穩(wěn)定性依賴于硬盤支架與盤面的壽命和穩(wěn)定性,其中硬盤支架上的HC和陰離子數(shù)目超標將直接導致硬盤在運行的過程中容易造成類似干電池的腐蝕,繼而丟失數(shù)據(jù)甚致硬盤報廢,而用傳統(tǒng)的方法很難有效降(低)其數(shù)量,因此,HC和相關(guān)陰離子很難降(低)到標準要求成了硬盤領(lǐng)域發(fā)展的一個瓶頸,屬于業(yè)界公認的難題。目前為了(降)低HC和相關(guān)陰離子數(shù)目多采用化學清洗方式,良品率低,效(果)不理想。誠峰智造等離子清洗機通過長達半年的工藝探索,與客戶深入合作,通過修改清洗配方,更改反應腔體結(jié)構(gòu)材質(zhì)、提高腔內(nèi)清洗均勻性等等,終于可靠將HC和相關(guān)陰離子數(shù)目降到標準要求以內(nèi),該項技術(shù)已經(jīng)在國(際)硬盤支架市場占有量第壹的生產(chǎn)基地得以推廣應用,大大提高了成品的良品率,縮減了生產(chǎn)成本,更關(guān)鍵的是提高了硬盤的穩(wěn)定性和壽命,可靠性及抗碰撞性也有明(顯)的改善。給客戶帶來了很大的經(jīng)濟效益和發(fā)展契機,甚致可以說,等離子處理在提高硬盤品質(zhì)領(lǐng)域的成功應用成為硬盤發(fā)展史上一個新的里程碑。
       等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的成效。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài),并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

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誠峰智造——專注等離子研發(fā)20年

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