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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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選擇真空等離子清洗機(jī)設(shè)備之前應(yīng)該了解如何去選型

       本文由小編從應(yīng)用的視角淺析了真空等離子清洗機(jī)的選型,通常從物品長(zhǎng)寬、抗熱性、清洗的目的是物理反應(yīng)、化學(xué)反應(yīng)、知名品牌售后服務(wù)要素來(lái)闡述。真空等離子清洗機(jī)技術(shù)最大的特點(diǎn)是能夠處理各種高分子材料,如非處理對(duì)象,可處理金屬、半導(dǎo)體、氧化物、聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氣乙烷、環(huán)氧甚至聚四氟乙烯等多種高分子材料。

真空等離子清洗機(jī)

       真空等離子清洗機(jī)采用數(shù)控技術(shù),自動(dòng)化程度高,調(diào)節(jié)設(shè)備高度精確,氣流量、清洗強(qiáng)度和時(shí)間控制精度高,電漿清洗系統(tǒng)在正確操作下,不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層,保證物品質(zhì)量,清洗是在真空環(huán)境下進(jìn)行的。電漿清洗系統(tǒng)有許多知名品牌和型號(hào),真空等離子清洗機(jī)選型是一種適合自己使用的電漿清洗系統(tǒng)尤其重要,下面就真空等離子清洗機(jī)的選型做一個(gè)簡(jiǎn)單的說(shuō)明。真空等離子清洗機(jī)是將物品放入清洗腔內(nèi)進(jìn)行清洗,常規(guī)電漿清洗腔尺寸為1L-10L,電漿清洗腔尺寸的參考因素是電漿清洗物品的尺寸,一般建議真空等離子清洗機(jī)腔空間要留出更多的冗余,比如電漿清洗的電漿已經(jīng)可以放入清洗,一是為了以后有更大的電漿清洗,二是真空等離子清洗機(jī)效果更好。
       物品抗熱性:真空等離子清洗機(jī)在儀器運(yùn)行時(shí),腔內(nèi)溫度隨清洗時(shí)間的增加而逐漸升高。例如,VP-.S系列不銹鋼腔等離子清洗系統(tǒng)運(yùn)行180秒,清洗室溫度為60/四十℃(標(biāo)準(zhǔn)射頻功率為四十KHz:60℃,射頻功率為13.56兆赫茲:四十℃),/VP-Q系列應(yīng)時(shí)腔等離子清洗系統(tǒng)運(yùn)行180秒,清洗室溫度為四十℃,物品不耐熱時(shí),應(yīng)選型13.56兆赫茲的射頻功率或CRF系列。
       真空等離子清洗機(jī)的清洗目的是物理反應(yīng)還是化學(xué)反應(yīng),物體的清洗目的是考慮物理作用還是化學(xué)作用,這與選擇等離子體的射頻激發(fā)工作頻率有較大聯(lián)系,較常用的等離子體清洗系統(tǒng)有四十kHz、13.56兆赫茲和20兆赫茲3種四十kHz的自閾值電壓約為1000V,13.56兆赫茲的自閾值電壓為250V左右,20兆赫茲的自閾值電壓較低,這3種激發(fā)工作頻率的體系不太一樣,四十kHz的自閾值電壓大約是物理反應(yīng),1356兆赫茲的自閾值電壓大約是物理反應(yīng),20兆赫茲的自閾值電壓約是化學(xué)反應(yīng),而半導(dǎo)體等材料大多采用物理反應(yīng),約1356兆赫茲。
       真空等離子清洗機(jī)選型可靠的知名品牌:進(jìn)口等離子清洗設(shè)備發(fā)展較早,設(shè)備成熟,但供應(yīng)時(shí)間長(zhǎng),售后維護(hù)服務(wù)不及時(shí),產(chǎn)品升級(jí)緩慢,價(jià)格較高。國(guó)內(nèi)等離子清洗還處于發(fā)展階段,各廠家產(chǎn)品的質(zhì)量參差不齊。有些廠家缺乏基礎(chǔ)研究和應(yīng)用知識(shí),品牌意識(shí)不強(qiáng),不重視售后服務(wù),一錘定音。精密儀器等離子清洗系統(tǒng)得到我國(guó)3項(xiàng)專(zhuān)利權(quán),產(chǎn)品的質(zhì)量平穩(wěn)。建議用戶(hù)結(jié)合預(yù)算和實(shí)驗(yàn)需求選型合適的知名品牌和型號(hào),確保等離子清洗系統(tǒng)長(zhǎng)期正常使用,達(dá)到最佳使用效果。

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