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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

plasma設(shè)備crf的應(yīng)用領(lǐng)域和機(jī)理

plasma設(shè)備crf的應(yīng)用領(lǐng)域和機(jī)理:
       隨著我國經(jīng)濟(jì)快速發(fā)展,清潔技術(shù)不斷發(fā)展和創(chuàng)新,從傳統(tǒng)的手工清潔到有機(jī)溶劑清潔、高壓水射流清洗和超聲波清洗。隨著科學(xué)技術(shù)的快速發(fā)展,作為本世紀(jì)初plasma設(shè)備表面處理技術(shù)的出現(xiàn),清潔技術(shù)已逐漸應(yīng)用于汽車制造涂料預(yù)處理、液晶玻璃表面清潔、電路板印刷、電鍍、油污替代化學(xué)處理等領(lǐng)域。

plasma設(shè)備

       plasma設(shè)備清洗技術(shù)在應(yīng)用過程中具有清洗效果徹底、處理表面穩(wěn)定、清潔困難部位有效清潔等特點。plasma設(shè)備的工作原理主要依靠等離子體活性顆粒的“激活”來去除物體表面的污漬。
在反應(yīng)機(jī)制方面,plasma設(shè)備的等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被刺激為等離子體狀態(tài);固體表面吸附氣相物理;吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)產(chǎn)生產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子分析形成氣相;反應(yīng)殘留物脫離表面。
      材料表面產(chǎn)生的plasma設(shè)備反應(yīng)主要有2種:一種是等離子體的物理反應(yīng),另一種是自由基的化學(xué)反應(yīng)。
       plasma設(shè)備和材料表面的物理反應(yīng)主要是利用離子作為純物理沖擊,原子或附著在材料表面的離子,因為平均自由基的低壓,能量積累,所以在物理沖擊中,離子能量越高,越容易產(chǎn)生沖擊,所以如果物理反應(yīng),必須控制低壓反應(yīng),使清潔效果更好。

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