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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子體涂層技術(shù)在模切刀數(shù)控刀具 pcd刀具的發(fā)展趨勢

       工業(yè)發(fā)達(dá)國家涂層刀具已占80%以上,其CNC機(jī)床上所用的切削刀具90%以上是涂層刀具。涂層刀具已成為現(xiàn)代刀具的重要標(biāo)志。常用的刀具涂層工藝有化學(xué)氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)。作為部分相互競爭的沉積技術(shù),兩種工藝互有優(yōu)缺點(diǎn)。CVD硬質(zhì)涂層工藝主要用于硬質(zhì)合金鍍膜,通常在較高溫度下操作,如果使用特殊前驅(qū)體可允許較低反應(yīng)溫度。但是,由于環(huán)境保護(hù)和復(fù)雜亞穩(wěn)定薄膜合成時熱力學(xué)需要,這種方法受到限制。與CVD法相比,PVD法對環(huán)境更加友好,在熱力學(xué)上更適合沉積三元和四元多組分超硬薄膜;這種方法常常在較低沉積溫度下操作,可以在不影響基體材料性能條件下對其進(jìn)行鍍膜。

       涂層刀具的發(fā)展趨勢是:沉積工藝復(fù)合化(復(fù)合表面處理技術(shù),如等離子體輔助CVD)、薄膜組成多元化(由TiN、TiC二元薄膜向TiAIN、TiCN、TiAI)CN等多元薄膜發(fā)展)、薄膜結(jié)構(gòu)多層化(由TiN、TiC等單層向TiC-Al2O3-TIN等多層薄膜發(fā)展)、薄膜組成和顯微結(jié)構(gòu)梯度化、薄膜晶粒納米化(“五化”)。為了提高刀具的性能,采用等離子體對硬質(zhì)合金刀具和陶瓷刀具進(jìn)行表面改性。在優(yōu)化工藝下,與傳統(tǒng)PVD、CVD方法相比,涂層硬度更高、膜基結(jié)合力更強(qiáng),所得硬質(zhì)合金TiN涂層刀具甚至可以直接加工硬度HRC62以上的淬硬鋼,涂層刀具比未涂層刀具切削性能提高2~10倍,為金屬切削用刀具表面改性開辟了一條新途徑。

       等離子體涂層技術(shù)能將刀具基材高強(qiáng)度、高韌性和涂層高硬度、高耐磨性相結(jié)合,可提高刀具的耐磨性而不降低其韌性,有效地解決刀具材料的硬度、耐磨性和抗彎強(qiáng)度、沖擊韌性之間的矛盾,成為刀具改性的有效途徑之一。隨著世界經(jīng)濟(jì)的分工與發(fā)展,中國逐步崛起為制造業(yè)大國,為我國刀具行業(yè)的發(fā)展帶來了空前的機(jī)遇和廣闊的舞臺:另一方面,經(jīng)濟(jì)發(fā)展和科技進(jìn)步,特別是航空航天、軍事、汽車、能源、模具和電子等工業(yè)的發(fā)展,對制造業(yè)提出了更加嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。

       高硬高強(qiáng)難加工材料使用越來越多、稀有刀具原材料資源接近枯竭、能源短缺價格攀升、環(huán)境污染越來越嚴(yán)重,要求發(fā)展吸收了現(xiàn)代信息技術(shù)、自動化技術(shù)與現(xiàn)代管理技術(shù)優(yōu)秀成果的優(yōu)質(zhì)、高效、低耗、清潔、敏捷制造并有理想技術(shù)經(jīng)濟(jì)效果的先進(jìn)制造技術(shù)。相應(yīng)地對刀具技術(shù)也提出了更高標(biāo)準(zhǔn),要求進(jìn)一步提高刀具切削性能、精度、效率和可靠性,安全、環(huán)保;實(shí)現(xiàn)高速切削、硬切削、干切削、精密和超精密切削、微細(xì)切削甚至虛擬切削。

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